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반도체 8대 공정 2탄: 식각, 이온주입, 증착 공정
반도체 8대 공정은 웨이퍼 제조, 산화, 노광, 식각, 증착, 금속배선, 테스트, 패키징의 8단계로 이루어져 있습니다. 이 중 1~3단계는 지난 포스팅에서 설명드렸고, 오늘은 4단계인 식각 공정과 이온주입, 5단계 증착 공정에 관해 정리하겠습니다. 목차 4-1단계: 식각 공정 식각 (Etching) 공정은 필요한 회로 패턴만 남기고 깎아내는 과정을 의미합니다. 포토 공정을 통해 회로가 새겨진 웨이퍼에 식각 물질을 반응시켜서 감광액이 덮이지 않은 부분을 깎아냄으로써 회로 패턴만 남게 됩니다. 식각 공정은 웨이퍼를 깎아내는 게 아니고 산화 공정을 통해 웨이퍼에 씌웠던 산화막을 깎는 것입니다. 식각 공정은 습식과 건식으로 나뉘는데, 습식은 부식액을 이용해 산화막을 벗겨내는 것이고, 건식은 이온을 이용합니다. ..
2023. 3. 30. 19:16